УДК 621.315.592
ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ПРОМЕЖУТОЧНОЙ ОБРАБОТКИ ВОДОРОДНОЙ ПЛАЗМОЙ НА СВОЙСТВА СЛОЕВ АМОРФНОГО КРЕМНИЯ ПРИ ДВУХЭТАПНОМ ОСАЖДЕНИИ
М. А. Региневич, Генеральный директор ООО «РСТ», Москва, Россия;
orcid.org/0000-0003-0412-2200, e-mail: Этот адрес электронной почты защищён от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра.
С. М. Карабанов, д.т.н., профессор кафедры ЭП, РГРТУ, Рязань, Россия;
orcid.org/0000-0003-3887-7062, e-mail: Этот адрес электронной почты защищён от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра.
Целью работы является исследование влияния обработки водородной плазмой слоев аморфного гидрогенизированного кремния на их дефектность при изготовлении гетероструктурных солнечных элементов. Обработка водородной плазмой после нанесения первого слоя аморфного гидрогенизированного кремния толщиной 5 – 6 нм позволяет пассивировать дефекты в объеме слоя и благодаря гидрогенизации поверхности создает условия для бездефектного роста следующего слоя до общей толщины 10 нм. Время жизни неосновных носителей заряда возрастает от 3,5 до 5 мс. Определены параметры обработки водородной плазмой, позволяющей уменьшить уровень дефектности слоев собственного гидрогенизированного аморфного кремния при производстве высокоэффективных солнечных элементов.
Ключевые слова: кремниевые кристаллические солнечные элементы, HJT, слои собственного аморфного кремния, плазмохимическое осаждение, обработка в водородной плазме.