УДК 537.523
ЧИСЛЕННОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ПЛОТНОСТИ ТОКА В ИНДУКЦИОННОМ РАЗРЯДЕ ИМПУЛЬСНОГО ПЛАЗМОТРОНА
А. Н. Власов, д.т.н., профессор кафедры ОиЭФ РГРТУ, Рязань, Россия;
orcid.org/0000-0002-6298-0433, e-mail: Этот адрес электронной почты защищён от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра.
А. В. Николаев, старший преподаватель кафедры ОиЭФ РГРТУ, Рязань, Россия;
orcid.org/0000-0001-7603-7094, e-mail: Этот адрес электронной почты защищён от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра.
Сформулирована электродинамическая модель, описывающая индукционный разряд в импульсном плазмотроне с точки зрения плотности индуцируемого тока в плазменном сгустке при действии импульсного магнитного поля. Проведены численные расчёты с использованием модели плазмы в виде цилиндра, демонстрирующие процесс формирования токового слоя в плазме. Цель работы заключается в численном исследовании динамики распределения плотности индуцируемого тока в плазменном сгустке, находящемся в магнитном поле, при быстром спаде этого поля.
Ключевые слова: импульсный плазмотрон, плазменный сгусток, импульсное магнитное поле, индукционный разряд, токовый слой.